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| 容量500Lのステンレス製還元反応装置で、最大6.8MPaの反応まで加圧可能です。 | 酸性の条件下で加圧還元反応ができます。 |
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| 薄膜を形成することで沸騰による発泡を抑え飛抹導伴を防止することで濃縮ロスを押さえます。薄膜を形成し、伝熱画の接触時間を短くすることで熱変性を受けやすい物質の濃縮に使用できます。又、高沸点の溶媒も低い温度で濃縮することが可能であり、製品の品質を確保できます。 | 500L及1000LのSUS反応機で、−90℃までの低温反応が可能です。 Grignard反応、LDＡを用いるアルキル化などの高度な冷却能力が求められる反応に対応することが出来ます。ＬＡＨ還元反応の実績もあります。 |
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| スプレードライヤーは原液（水溶液）を特殊ノズル(噴射式)で微粒子化し、連続して熱風を接触させ瞬間的に乾燥を行うものです。熱に敏感な物質でも変質がきわめて少ないのが特徴です。当社では原液供給ラインにＵＦフィルターを、熱風供給ラインにはＨＥＰＡフィルターを設置し、乾燥後の充填をクリーンルーム内で行うＧＭＰ管理を行っております。 | イオン交換膜を用いて、電気的に水溶液中の無機塩類を除去できる装置です。 一般的に無機塩を除去する方法として用いられる樹脂処理に比べて少ない液量で無機塩を除去できます。 |
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